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供应商：徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

Leica EM SCD050是一套台式溅射镀膜仪，带有水冷溅射金属靶，适用于镀很厚的金属膜，在长时间溅射过程中保护敏感样品不受热损伤。

供应商：徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

Leica EM SCD005是一套台式溅射镀膜仪，可产生颗粒细腻，高质量的导电膜，主要使用一些贵金属，如金，金/钯，铱，银或铂。即便工业领域应用的晶片或CD等大样品也可实现镀膜。

供应商：深圳市科时达电子科技有限公司

太阳城下载下载地址苹果版  磁场可以以三种模式被任意控制:固定的值, 线性扫描, 或者用户可以自定义。· Wafer size：10mm，可升到200mm· 磁场：方向任意三维大6kOe (0.6T)· 定向精度+/- 1.0· 在10mm直径范围内的均匀性+/- 2%· 稳定性优于0.1%· 频率范围：DC to ~ 67GHz· 分辨率：200mG· CHUNK: Isolated, grounded or coaxial.· 运动范围:100mm x 100mm· 集

太阳城下载下载地址苹果版供应商：深圳市科时达电子科技有限公司

太阳城下载下载地址苹果版 振动样品磁强计VSM•    振动头振动频率(校准):1-100Hz•    VSM振荡幅度范围：0.1mm-5mm•    大样品直径：6mm•    适用于液体、粉末、块状样品测试•   RMS 灵敏度5 × 10-7emu•   超高稳定性±0.05% 每天•   非常简单易用的高温炉/低温选件 2-1000k测试温度范围•&nb

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美国 磁控溅射镀膜机(Sputter)腔体材料：不锈钢，铝，或者Bell Jar；分子泵：70，250，500 l/sec； 一级泵：机械泵或干泵；13.5MHz, 300-600W射频电源；1KW直流电源；QCM在线厚度测量，厚度分辨率<0.1nm；带有观察窗的门，方便样品取放；Labview软件，PC控制；多重密码保护；全安全互锁设计； 选配功能：向上，向下，侧向溅射；射频，直流、脉冲直流溅射；共溅射，反应溅射；组合溅射；射频、直流偏置(1000V)；基底加热：不高于700摄氏度；

太阳城下载下载地址苹果版供应商：QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司

多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的一款高精度的磁控溅射喷金仪。该系统可配备SEM样品托、TEM网、普通样品等多种专用样品台，满足各种高精度的喷金或电极生长需求。除了溅射金属电极外，nanoEM还具有极大的拓展空间，虽然作为台式设备，nanoEM配备了输出功率可达300W的溅射源，系统还可选择样品台旋转、样品倾斜、自动压强控制等多种功能。丰富的选件和配置可以满足学术研究的多种样品生长需求，可升级成为一台多功能的磁控溅射薄膜制备系统。

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

DENTON 真空使创新成为可能，并已超过50年。全 球成千上万的薄膜沉积工具安装,包括一个大型的、在全 球范围内安装的精密光学沉积系统——工程师和研究人员依靠DENTON 的薄膜创新驱动更高的吞吐量,更好的收益和低拥有成本(首席运营官),受益于综合服务和支持,和一个专门的研发项目,提供可行的技术。探索者提供了薄膜工业中最广泛的配置和沉积模式:电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。DENTON 薄膜沉积平台•R & D•批量生产•在线生产•蒸发•溅射•PE-CVD DENTO

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太阳城下载下载地址苹果版 -快速循环次数 不到3分钟,dv - 502 b达到10 -⁴托干净,可以排除系统中使用一个标准的12“dia x 12“高钟罩。 -强大的控制系统 PLC的触摸屏界面提供以下模式的完全控制:服务模式、手动模式和半自动模式。标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。 安全联锁减轻了对操作者和设备的损害。 -各种各样的金属 蒸发大部分用于光学涂层、金属化和电子显微镜样品制备的金属。常见的金属包括碳、金、金/钯和铂。

供应商：磐石创新(江苏)电子装备有限公司

PS-200单靶磁控溅射镀膜机主要由真空室、磁控靶、旋转基片架、真空系统、机架、电器控制等几大部分组成。可用来制备导电膜、金属膜、介质膜、半导体膜、绝缘膜、多层膜等。设备结构紧凑，占地面积小适合高校实验室及科研院所。

太阳城下载下载地址苹果版供应商：安徽科幂仪器有限公司

基于客户需求设计的一款针对电极制备和有机物发光LED的镀膜设备，较常规产品，该产品新增旋转样品台和程序控温功能。精确控制温度200℃-1500℃，较大可蒸镀直径50mm薄膜样品，可用于制备金属薄膜和有机物薄膜。

供应商：江苏米立特科学仪器有限公司

日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。 日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm 日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度：20 mm   特点： 采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件 可处理较厚或较大的样品(选配件) 记忆功能可存储常用加工